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第416章【向高通学习,躺着赚专利费】

第416章【向高通学习,躺着赚专利费】 (第1/2页)

“当前的行业现状是,193纳米液浸式光刻机系统是最为成熟的技术,在精确度以及成本上做到了一个近乎完美的平衡,短时间内很难被取代,但终究也是要被取代的,就是极紫外光刻机技术。”
  
  安静的会议大厅里,罗晟有条不紊的说道:“这样做的风险是很高,但是不可否认的是半导体业的发展也的的确确到了一个新的转折点,摩尔定律正在面临巨大的挑战,没有人能够确定去年总产值3000亿美元的半导体产业将如何引导未来5年或10年内的发展。”
  
  “也无人能够知晓‘后摩尔定律’时代的半导体行业未来会是什么样子。”说到这里罗晟心中补充了一句“除了我”,停顿了片刻继续说道:
  
  “利润的下降也可能是无法避免的,但是如果摩尔定律能够有效的避免半导体业营业额的下降,即便只有15%,其现金流也仍然是整个美国游戏产业营业额的两倍。”
  
  朱昱下意识的点点头,在罗晟停顿的时候发言道:“光刻、蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素,但是能实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来,光刻机厂商就是这么做的,把晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减少波长,一直到光谱上的紫外端……”
  
  罗晟继续说道:“摩尔定律的终点已经被大家预见到了,半导体行业也一直都在寻找方法来保持技术革新和进步,全球的领先芯片制造厂商们也在努力改进技术,即:将晶片从光刻机中加工取出后再放入其中,并在原来的位置精准的印刷出下一层图像,EUV是较为不同的一个。”
  
  “我坚信这个技术可以实现,是未来的趋势,并且该技术会成为芯片制造商们最划算的选择。所以我的想法是接下来不惜成本合力做出一个EUV光刻机样机,争取在2015年左右实现这个目标,使其他研究者们可以测试这种方法。”
  
  不一会儿,胜利精密的掌门人高总提出了不同的看法,他说道:“但是罗总,据我所知EUV技术是非常困难的。在使用波长近乎为X光的射线去蚀刻的时候,物理学知识并不能为工程师们帮上多少忙。”
  
  与会的其它人也不由得点点头,极紫外光刻技术在上个世纪90年代后期就已经被提出来了,如今过去了十多年,行业大拿ASML公司也毫无进展,其难度可想而知。
  
  末了,众人不由得看向了罗晟,诧异的发现善于创造奇迹的年轻世界首富却是一脸轻松,这不禁让大家好奇了。
  
  罗晟调出了一组数学模型,不用他示意众人已经纷纷看向了大屏幕,而罗晟有条不紊的说道:
  
  “高总说的不无道理,所以我最终选择了13.5纳米波长射线,这种光可以轻易地被很多材料吸收,即使我们呼吸的空气也是完全的黑色,因为它也吸收了最后一点射线,我很早就意识到了EUV光刻机只能在真空下运行,晶圆则通过一个气闸进出光刻机。”
  
  罗晟补充道:“之后接踵而来的就是让射线弯曲的问题了,EUV也能被玻璃吸收,所以在设备中改变其走向,需要使用反射镜来代替透镜,而且还不能是普通的反射镜,普通打磨镜片的反射率不够,所以需要一种多层镜面,可以将很多小的反射集中成一个单一而强大的反射,也就是所谓的布拉格反射器。”
  
  

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