第226章 含硅光阻与高考！

第226章 含硅光阻与高考！ (第1/2页)

信息技术部的银河操作系统已经到了最后阶段，内核都已经完成，预计这个月末就能开启用户测试，不需要钟子星操心。
　　
　　所以，他迫不及待的就离开了信息部和江浩然转向元素演变部。
　　
　　......
　　
　　中子战星。
　　
　　几十个化学实验室里分布着上千人，大家联合实验，都领了各自的任务，投入最擅长的行列。
　　
　　有的研究光致抗蚀剂、电镀化学品、封装材料，部分人攻克高纯试剂、特种气体、溶剂、清洗前掺杂剂、焊剂掩模、酸及腐蚀剂、电子专用胶黏剂。
　　
　　这些电子化学品的人才国内非常多，但受限于环境被大量的埋没。
　　
　　此时，他们都被中子星科技的超级人才库收集，一个个发了offer邀请过来。
　　
　　业内顶级的条件，最好的环境，不计代价的投入资金，加上有钟子星在一旁指导，化学实验室三天两头就有突破的好消息传来。
　　
　　但是，距离真正能够上台的高级成品，还有很长一段路要走。
　　
　　电子化学品，大部分学过化学的人都有接触过，甚至在老师的领队下亲自参与过这些材料的合成。
　　
　　比方说光刻胶，化学选修课——有机化学基础上，就有非常详细完整的合成路线，并且这种路线完全正确，老师还会给学生发布任务，让大家联合动手。
　　
　　可完整归完整，大家都能按照步骤一点点的合成，想要登上舞台，让半导体巨头使用你的光刻胶这是不可能的。
　　
　　电子化学最高壁垒不是一句空话。
　　
　　随着光刻工艺的升级，对光刻胶的要求也越来越高。
　　
　　为了避免光刻胶线条倒塌，线宽越小的光刻工艺，如目前的32nm，28nm、22nm光刻，对光刻胶的要求高的离谱，所需厚度越来越薄。
　　
　　22nm的光刻技术制程，光刻胶的厚度要求达到了是100nm左右。
　　
　　太厚曝光不足，太薄又无法有效的形成光阻，不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀，非常的麻烦，必须要严格按照标准来镀膜。
　　
　　钟子星与江浩然两人都穿着白大衣，带着护目镜和口罩，身边还跟着几位助手，独占一间实验室。
　　
　　“第20次实验，厚度依然无法达标……”
　　
　　江浩然操作着一台电子显示器，屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现，均匀分布，但是远远无法达到顶尖的水准。
　　
　　稍微低端的刻蚀足够，但绝对无缘顶级市场。
　　
　　“得从其他方面入手！”
　　
　　“比如加入一些别的材料？硅材料或碳材料！”钟子星双手扶着白色的实验台，陷入沉思。
　　
　　以传统的方式进入光刻胶领域，想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的，得走一走别的路才行。
　　
　　“试试看，开始第21次实验！”
　　
　　科研就是在失败中前进，没有人能形容找到路时那种心情，重要的是敢于尝试。
　　
　　“好！”江浩然话不多，能动手绝不多说。
　　
　　两人加上数个助理立刻开始投入新的实验，在光刻胶中加入其他材料，无论是光敏强或弱，都在试验范围之内。
　　
　　

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