第二百四十三章 超紫外激光！波长1.5nm！功率2000w！（1）

第二百四十三章 超紫外激光！波长1.5nm！功率2000w！（1） (第2/2页)

高原目光扫过硕大的物镜时候，嘴角轻轻扬起一抹弧度，信心满满。
　　
　　这套物镜来自系统那大猪蹄子的馈赠，绝不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起来那么简单，除了精度，它还有着强大的功率补偿机制，容错机制。
　　
　　也就是说，激光通过物镜后，功率可以得到一定程度提升，精度方面，则可以做到无限接近完美的程度。
　　
　　总之就是很牛逼很强大的意思，开了外挂的物镜，效果杠杠的。
　　
　　物镜下面，就是测量台和曝光台了，老式光刻机需要先测量，再曝光，而这种双工作台系统，则可以实现一片硅片曝光同时，对另一片硅片进行测量和校准，工作效率提高一倍以上。
　　
　　目前世界上，只有荷兰asml掌握双工作台技术，长春这个机台如果量产的话，将是世界第二名。
　　
　　整套机台最底部，是内部封闭框架和减振器，它们负责将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持恒定的温度和压力。
　　
　　这一点极其重要，毕竟是制造高精密芯片，哪怕最微小的震动，一粒尘埃，或者空气温度和湿度的差别，都有可能导致硅片曝光失败，或者前后两批芯片的性能不一致。
　　
　　一台完整的光刻机，大体就是这样了。
　　
　　听上去简单，其实却是人类历史上最复杂最精密的机台，没有之一。
　　
　　放眼全球，能做到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能做到极紫外的，则只有荷兰asml，其余所有竞争对手，全部惨遭淘汰，消失在历史的长河中。
　　
　　“开始！”
　　
　　长春光机所的所长叫杜维明，随着他一声令下，全封闭绝尘实验室里，光刻机开始运行，大概也就十几秒钟过后，一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。
　　
　　其实，光刻机工作速度是很快的，每小时出片两百张以上，完全不存在任何问题。
　　
　　制约产能的主要是沉积设备，PVD和CVD这类，其次是刻蚀设备包括ICP，CCP，DIE这几种机台，另外热处理设备工作效率也十分感人。
　　
　　一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蚀机。
　　
　　目前，中微半导体的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最牛的半导体代工厂台积电，生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导体行业里比较争气的存在。
　　
　　“成了！”
　　
　　“一次出片成功，比我预想的还要顺利！”
　　
　　“不愧是昆仑集团啊，临时加进来的光学系统，竟然和旧机台配合的这么好！”
　　
　　实验室里，穿着全套无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会发现上面出现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜人。